Department of Physics, Osmania University, Hyderabad, India;
RF magnetron sputtering; ZnO; optical properties; structural properties; substrate temperature; thin films;
机译:衬底温度对直流磁控溅射Al和Ga共掺杂ZnO薄膜结构,形貌,电学和光学性质的影响
机译:衬底温度对射频磁控溅射纳米结构ZnO薄膜性能的影响
机译:射频磁控溅射在蓝宝石和ZnO衬底上生长的单晶ZnMgO薄膜的结构和光学性质
机译:底物温度对RF磁控溅射生长纳米结构ZnO薄膜结构和光学性质的影响
机译:射频磁控溅射未掺杂镧锰矿薄膜的结构,磁性和表面特性。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)