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極薄フォトレジストパターンをスペーサーとして利用した有機半導体膜の無溶媒転写形成

机译:使用超薄光致抗蚀剂图案作为间隔物的非溶剂转移形成有机半导体膜

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摘要

有機薄膜トランジスタ(OTFT)を基盤とする電子デバイスのコスト削減および大面積製造に向けて, 印刷プロセスや溶液プロセスが注目を集めている。しかしこれらのプロセスは有機半導体薄膜を作製する際, 塩素系溶媒を使用しており人体や環境への悪影響が危惧される. そのため近年, 溶媒を用いないもしくは低環境負荷溶媒を用いるプロセスの研究が頻繁に行われ, すでに多くの成果が報告されている. 我々もn型有機半導体ナフタレンジイミド誘導体(NTCDI-C13)粉末を疎水性ポリイミドフィルムにより直接基板へ転写成膜するプロセスを以前, 本学会にて報告した. 本研究では, 研究室で調製した平滑な表面を持つポリイミドフィルム上に極薄スペーサーを作製し, 有機半導体粉末を大気および真空中で転写パターンニングすることに成功したので報告する.
机译:印刷过程和解决方案过程引起了基于有机薄膜晶体管(OTFTS)的成本降低和大面积生产的成本和大面积生产。然而,当生产有机半导体薄膜时,使用氯类溶剂,对人体和环境的不利影响。因此,已经报道了使用溶剂或低环境冲击溶剂的过程研究频繁并具有已经报道了。我们还将N型有机半导体萘腙衍生物(NTCDI-C13)粉末直接通过疏水聚酰亚胺薄膜转移到基材上,在本研究中,在本研究中,我们在聚酰亚胺上报告了一个极薄的间隔物在实验室中制备具有光滑表面的薄膜,并将有机半导体粉末报告给大气和真空中的转录图案化。

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