半導体デバイス製造クリーンルームにおけるナノ粒子計測の展望

摘要

クリーンルーム内における気中微粒子清浄度管理は、半導体デバイスの製造歩留りを維持する重要な要因の一つである。特にシリコンウェハが内在する環境内の清浄度は、ウェハ上への微粒子の付着による製品歩留り低下につながらぬよう厳密な清浄度管理が必要である。