Makless DRIE Porous Polysilicon Nano;
机译:室温下通过无掩模反应离子刻蚀研究具有超低宽带反射率的硅纳米柱
机译:用反应离子刻蚀和deEP 1UV光刻技术在硅中制成的deEP 1纳米孔的周期性阵列
机译:使用位错光刻和深反应离子蚀刻的超高纵向比和周期硅纳米玻璃阵列的制造
机译:通过无掩模深反应离子蚀刻工艺形成硅纳米孔和纳米粒子
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:结合隔离技术和深反应离子刻蚀形成硅纳米结构
机译:使用深反应离子蚀刻制备高纵横比硅纳米粒子和纳米能