Modulated pulse power (MPP); High power pulsed magnetron sputtering (HPPMS); Thin films; Chromium nitride (CrN); Ion bombardment;
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机译:调制脉冲功率溅射技术在薄膜技术中的进展
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
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机译:不对称双极脉冲直流磁控溅射技术掺铝提高ZnO薄膜热电功率因数的研究