絶縁膜としてアルミ陽極酸化膜厚を連続変化させたエレクトロウエツティング素子による光ビーム偏向制御

摘要

レーザープリンターやレーザー顕微鏡などのレーザー光を用いる機器では，レーザー光軸の偏向制御が必要となる.本研究では，アルミニウム陽極酸化膜を絶縁膜として用いてエレクトロウエツティング現象による液滴の移動を試みた.そして，素子にレーザー光を入射することで，高耐久，低電圧，広偏向角度となる偏向制御素子の実現を目指した.偏光制御素子は，絶縁膜として膜厚を連続的に変化させたストライプ状のアルミニウム陽極酸化膜を2箇所に成膜するが，その膜厚変化が逆になるようにかつ，隣り合わせになるよう1枚のアルミ基板上に構成した.そして，この上に撥水膜としてテフロンを成膜した.この基板に対し，液滴25μlを滴下しレーザー光を入射することで偏向制御を行った.これにより最大駆動電圧90 Vにおいて偏向角度42.3°の偏向制御素子を実現した.