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直流バイアス電流印加時の薄膜MI素子の挙動とその解析

机译:施加直流偏置电流时薄膜MI器件的行为和分析

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摘要

薄膜素子に直接直流バイアス電流を印加した結果,インピーダンスの外部磁界依存性において,Z軸に関して非対称性が確認された.これらの結果について,バイアス磁化率 の理論,マクスウェルの方程式に基づき,直流電流による バイアス磁界や素子断面形状の影響を考慮することにより, 定性的にインピーダンスの非対称性を説明することが可能 となった.また,実験的に直流バイアス磁界を印加した場合,数mAのバイアス電流でセンサ感度が増加する傾向を示した.
机译:作为将直流偏置电流施加到薄膜元件的结果,在阻抗的外部磁场依赖性的Z轴上确认不对称性。这些结果是基于Maxwell等式的偏置磁化率理论通过考虑偏置磁场和元件横截面形状的影响,可以定性地解释阻抗的不对称性。此外,当实验上施加DC偏置磁场时,几MA传感器灵敏度的偏置电流倾向于增加。

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