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【24h】

ドレインオフセット構造を持った相補型TFET回路のTCADシミュレーション

机译:具有漏极偏置结构的互补TFET电路的TCAD仿真

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摘要

我々はSiチャネルトンネルトランジスタ(TFET)からなる相補型論理回路のTCADシミュレーショ ンを行い、ドレインオフセット構造が回路特性に与える影響について調べた。ドレインオフセット構造は逆バイア ス下におけるオフ電流を大きく減少させ、20nm以下までTFET回路のゲート長スケーリングを可能とする。さら にドレインオフセット構造によるゲートドレイン容量(CGD)の低下は、発振回路の周波数増大をもたらす。この 発振速度の増大効果はTFETに特有なC_(GD)のドレイン電圧依存性と密接に関わっており、動作電圧にも依存する。
机译:我们对由Si沟道隧道晶体管(TFET)组成的互补逻辑电路进行了TCAD仿真,并研究了漏极失调结构对电路特性的影响。漏极偏移结构极大地减小了反向偏置下的截止电流,并使TFET电路的栅极长度缩放至20 nm或更小。此外,由于漏极偏移结构引起的栅极-漏极电容(CGD)的减小导致振荡器电路的频率增加。增加振荡速度的这种效果与TFET特有的C_(GD)的漏极电压依赖性密切相关,并且还取决于工作电压。

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