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【24h】

Impact of air exposure on physical properties of sputter-deposited undoped ZnO films

机译:空气暴露对溅射沉积未掺杂ZnO薄膜物理性能的影响

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摘要

This paper demonstrates the impact of exposing undoped ZnO films to the air. Lateral resistance of ZnO films annealed in O2 ambient increases with the time spent and then decreases at over one hundreds hours, while that of ZnO films annealed in N2 ambient is almost insensitive to such exposure.
机译:本文展示了暴露未掺杂的ZnO膜在空气中的影响。在O 2环境中退火的ZnO膜的横向电阻随着花费的时间而增加,然后在一百小时内降低,而在N 2环境中退火的ZnO膜的ZnO膜几乎对这种暴露几乎不敏感。

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