Lennard-Jones pair potential; Monte Carlo method; computer simulation; fractal structure; growth of thin films; magnetron sputtering method;
机译:磁控溅射纳米双层Ni / Ti薄膜的表征,性能及退火效应
机译:直流磁控溅射与高功率脉冲磁控溅射工艺在不同惰性气体条件下生长CNX薄膜的比较研究
机译:具有不同惰性气体的CNX薄膜生长的直流磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射工艺的对比研究
机译:磁控溅射过程中纳米膜生长和退火过程的计算机模拟
机译:氮化铬和氮化铬铝外延膜,用于通过AC反应磁控溅射法生长α-氧化铝。
机译:热退火对通过射频磁控溅射获得的锆掺杂MgXZN1-XO膜性能的影响
机译:直流磁控溅射与大功率脉冲磁控溅射工艺在不同惰性气体条件下CNX薄膜生长的比较研究