OPC; ILT; Lithography; MDP; Variable Shaped Beam (VSB); Verification; Model-Based Mask Data Preparation (MB-MDP);
机译:在45nm逻辑门掩模上基于模型的掩模验证
机译:电子束掩模写入器中热稳定真空室中掩模浸泡性能的评估
机译:掩模扫描电子束掩模写入器的开发
机译:基于模型的MPC可使用VSB或多光束掩模写入器启用曲线ILT
机译:校正策略以补偿在EUVL掩模卡盘过程中引起的图像放置错误。
机译:Respi-check口罩*的临床评估:带有呼吸指示器的新型氧气面罩
机译:1的补码校验和的错误屏蔽概率