机译:草酸铂和钯:正性极紫外光抗蚀剂
机译:基于富勒烯衍生物的新型正离子分子抗蚀剂在极端紫外光刻中的应用
机译:探索正性化学放大抗蚀剂的极限分辨率:使用极端紫外线干涉光刻技术的26 nm密集线
机译:氨基二硅烷作为甲硅烷基化剂,用于干式发育的正色调,用于深紫外(248纳米)和极端紫外(13.5nm)的微光塑
机译:极紫外光致抗蚀剂:薄膜抗蚀剂的薄膜量子产率和LER。
机译:铂和钯草酸盐:正色调极端紫外线抗蚀剂
机译:氨基二硅烷作为甲硅烷基化剂,用于干法显影的正极性抗蚀剂,用于极紫外(13.5)微光刻