Logic gates; Etching; Manufacturing; Plasmas; Erbium; Silicon germanium;
机译:使用CHF_3 + BCl_3等离子体分别干刻N〜+ -GaAs / AlGaAs / n-InGaAs掺杂沟道FET
机译:使用超高真空原位干法刻蚀和沉积处理系统制造的具有高质量干法刻蚀镜的AlGaAs激光器
机译:对GAA-CNTFET的门 - 全环锗纳米管域效应晶体管(Gaa-Gentfeet)的基准性能
机译:SiGe新型干法刻蚀工艺,用于实现高性能逻辑堆叠全能纳米板器件
机译:基于氟化物的蚀刻和清洁工艺的机理。
机译:用于制造直径小于20 nm的垂直纳米线阵列的SiGe新型干法选择各向同性原子层蚀刻。
机译:(受邀)针对垂直和无损伤的蚀刻后InGaas鳍片轮廓:干蚀刻处理,侧壁损伤评估和缓解选项
机译:具有干蚀刻垂直面和抛物面偏转镜的表面发射alGaas二极管激光器的高量子效率单片阵列。 (重新公布新的可用性信息)