首页> 外文会议>Eighteenth International Symposium on Semiconductor Manufacturing >Methodology for N recovery post PM for agedon-annealed SPA oxynitride gate without XPS referencing
【24h】

Methodology for N recovery post PM for agedon-annealed SPA oxynitride gate without XPS referencing

机译:在没有XPS参考的情况下,老化/未退火的SPA氮氧化物浇口在PM后N%回收的方法

获取原文

摘要

In this DoE (design of experiment) study, we reported a relatively simple methodology which enables Aleris VUVSE system to well maintain the thickness and nitrogen content (N%) measurement accuracy and matching of DPN, pre and post PM (preventive maintenance) of system, via rely on monitoring of the agedon-annealed nitrided oxide samples N% correlation function, without the need to rely on the standard XPS referencing targets.
机译:在此DoE(实验设计)研究中,我们报告了一种相对简单的方法,该方法使Aleris VUVSE系统能够很好地保持厚度和氮含量(N%)的测量精度以及DPN,系统前后PM(预防性维护)的匹配性。通过依赖对老化/未退火的氮化氧化物样品的N%相关函数的监视,而无需依赖标准XPS引用目标。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号