机译:通过纳米润滑剂和激光表面纹理化,延长了刀具寿命,并减少了铣削过程中的功率消耗和表面粗糙度
机译:通过纳米润滑剂和激光表面纹理化,延长了刀具寿命,并减少了铣削过程中的功率消耗和表面粗糙度
机译:阐明了晶片表面上异丙醇(IPA)的吸附现象,以实现批量清洗系统中的超净和节省IPA的干燥过程
机译:光刻产量增强由于高级晶片背面清洁处理所产生的可用深度的消耗量降低
机译:半导体制造中光刻工艺和晶圆检查方案的三维建模
机译:使用等离子元掩模进行远场晶圆级光刻的分辨率提高
机译:通过聚焦离子束加工控制蓝宝石晶片表面上的纳米步骤结构