Semiconductor Physics Institute, Gostauto 11, 2600 Vilnius, Lithuania;
high current density; junction model; transistor model; accuracy;
机译:低温注入技术改善了P-N结泄漏并降低了晶体管的界面态密度
机译:高k电介质和p-n结中等离子体充电损伤及其对金属氧化物半导体场效应晶体管的关态漏电流影响的比较研究
机译:计算Quasi-Fermi水平逼近P-N结太阳能电池的电流密度和量子效率
机译:用于高电流密度晶体管的P-N结的方程
机译:演示适用于高频应用的具有高电流和功率密度的4H碳化硅双极结型晶体管。
机译:光和电激发下的p-n结光电流建模评估
机译:I在存在收集电流的情况下反向偏置的p-n结的条件II修改的集电极边界条件对晶体管基本性能的影响