Centre for Plasma and Laser Technology, Institute of Fluid Flow Machinery PAS, 80-231 Gdansk, Poland;
Centre for Plasma and Laser Technology, Institute of Fluid Flow Machinery PAS, 80-231 Gdansk, Poland;
Centre for Plasma and Laser Technology, Institute of Fluid Flow Machinery PAS, 80-231 Gdansk, Poland;
Digital Micromirror Device; Printed Circuit Boards; UV lasers; photoresists; soldermasks;
机译:用于WDM耦合器插入损耗测量的自动化多二极管激光系统
机译:通过在含硅光刻胶上散焦紫外线曝光来控制玻璃状碳模具的倾斜角度
机译:通过双UV曝光光刻对带有SU-8光致抗蚀剂的波导进行可调节的折射率调制
机译:用于UV暴露的光致抗蚀剂的多二极管激光系统
机译:研究非晶态三硫化二砷中的银光掺杂机理,以及碲化银-三硫化二砷体系作为无机光刻胶的亚微米光学和深紫外光刻技术的潜力
机译:了解半干旱生态系统中的凋落物分解:将叶片性状紫外线暴露和降雨变异性联系起来
机译:正性光树脂在紫外线下的光化学分解研究正性光致抗蚀剂在紫外线下的光分解
机译:使用准分子激光曝光的自发光UV光刻胶。