Mechanical Engineering Research Laboratory, Hitachi, Ltd., 502 Kandatsu, Tsuchiura, Ibaraki, 300-0013, Japan;
机译:COOCHRALSKI和EFG方法生长半透明氧化物晶体热应力的数值分析
机译:直拉硅单晶生长过程中由直径波动引起的热应力的各向异性研究
机译:直拉晶体生长中的整体热损失和热应力分析
机译:Czochralski生长期间减少氧化物单晶热应力的分析
机译:低压和高压切克劳斯基晶体生长的对流,偏析和热应力耦合模型。
机译:还原型Tempone基质单晶中一氧化氮自旋标记2266-四甲基哌啶酮-N-氧甲苯基(丁香酮)的电子自旋共振分析
机译:降低切克劳斯基生长过程中氧化物-单晶热应力的分析