Nano SOI Process Laboratory, Hanyang University, Seoul 133-791, Korea;
Division of Advanced Materials Science Engineering, Hanyang University, Seoul 133- 791, Korea;
Hynix Semiconductor Inc., Kyungki-do 467-701, Korea;
机译:铁金属沉淀胶态二氧化硅的合成及其在W化学机械抛光(CMP)浆料中的应用
机译:阴离子表面活性剂用于使用胶态二氧化硅基浆料在氮化硅膜上选择性抛光二氧化硅的用途
机译:非球形胶体二氧化硅浆料对Al-NiP硬盘基板CMP应用的影响
机译:有机添加剂在胶体二氧化硅浆料中的碱性试剂对多晶硅 - 至SiO {Sub} 2的抛光速率选择性
机译:胶态二氧化硅化学机械抛光浆料中的剪切增稠。
机译:毒性对粗二氧化硅纳米粒子的巨噬细胞和E551食品添加剂与遗传毒剂组合
机译:通过表面活性剂的浆料介导控制锗Cmp选择性