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【24h】

Improved simulated annealing algorithm for optimization of symmetrical diffractive elements

机译:改进的模拟退火算法优化对称衍射元件

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摘要

Abstract: We present a modified simulated annealing algorithm for the design of diffractive optical elements whose basic cell is constrained by a symmetry similar to that of the reconstruction field. Compared with the conventional SA algorithm, our approach permits better designs with reduced computational efforts. !9
机译:摘要:我们提出了一种改进的模拟退火算法,用于设计衍射光学元件,该衍射光学元件的基本像元受到与重建场相似的对称性约束。与传统的SA算法相比,我们的方法允许以更少的计算工作量实现更好的设计。 !9

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