Department of Materials Science and Engineering, University of Texas at Dallas, Richardson, TX 75080, USA;
Semiconductor RD Center, Samsung Electronics Co., Gyeonggi-Do, 443-742, Korea;
Department of Materials Science and Engineering, University of Texas at Dallas, Richardson, TX 75080, USA;
机译:通过氮等离子体产生的自由基覆盖金纳米粒子的SiO_2 / Si(100)表面的等离子体氮化
机译:缝平面天线等离子体自由基氮化形成的超薄氧氮化物的表征
机译:氮等离子体氮化抑制氮化诱导的界面陷阱和空穴迁移率降低
机译:用于半导体氮化的新型自由基氮等离子体源的表征
机译:用于金属氧化物半导体栅极介电应用的二氧化硅远程等离子体氮化研究。
机译:谷氨酰胺和甘氨酸血浆浓度与氮作为尿氨来源的利用之间的关系。
机译:直接等离子体氮化制备4H siC(0001)表面氮化层及表征
机译:用于中红外源的黄铜矿和取向图案半导体:建模,生长和表征