IWS Dresden, Fraunhofer-Institut fuer Werkstoff- und Strahltechnik Winterbergstr. 28, D-01277 Dresden, Germany;
thin film deposition; smoothing; multilayer mirrors; carbon; EUV; PLD;
机译:碳缓冲层,用于使超抛光玻璃表面光滑,作为钼/硅多层软X射线镜的基底
机译:碳缓冲层,用于使超抛光玻璃表面光滑,作为钼/硅多层软X射线镜的基底
机译:具有多层镜的高阶谐波时间补偿EUV和软X射线单色仪的设计
机译:用于平滑EUV和X射线多层镜的碳缓冲层的碳缓冲层
机译:用于多层反射镜的EUV /软X射线区域中材料的光学常数。
机译:使用波前校正的多层聚焦镜对X射线自由电子激光进行纳米聚焦
机译:用于多层镜像应用的EUV /软X射线区域中材料的光学常数
机译:用于多层镜应用的EUV /软X射线区域中的材料的光学常数