首页> 外文会议>Conference on Optical Data Storage 2001, Apr 22-25, 2001, Santa Fe, USA >Recording power tolerance of magneto-optical media on RIE-formed substrate using NA 0.85 and 407 nm optics
【24h】

Recording power tolerance of magneto-optical media on RIE-formed substrate using NA 0.85 and 407 nm optics

机译:使用NA 0.85和407 nm光学元件在RIE形成的基板上记录磁光介质的功率容限

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摘要

To realize high density magneto-optical recording, it is important to suppress the disk noise. As we have reported, UV irradiation before sputtering films on the substrate could suppress the disk noise. But UV irradiation changed the shape of land and groove. We found that it caused poor recording power tolerance, because cross-talk could not be canceled using the phase compensation method. We developed a substrate formed by using a RIE process. Using this RIE-formed substrate, we could suppress the disk noise without UV-irradiation and improve the recording power tolerance.
机译:为了实现高密度的磁光记录,重要的是抑制盘噪声。如我们所报道的,在基板上溅射膜之前的紫外线照射可以抑制磁盘噪声。但是紫外线照射改变了槽脊的形状。我们发现,由于无法使用相位补偿方法消除串扰,因此导致记录功率容差较差。我们开发了通过使用RIE工艺形成的基板。使用这种RIE形成的基板,我们可以在没有紫外线照射的情况下抑制磁盘噪声,并提高记录功率容限。

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