Faculty of Science and Technology, Department of Applied Physics and Physico-Informatics, Keio University. 3-14-1 Hiyoshi, Kohoku-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Japan;
gray scale; lithography; image processing; chrome mask; random dither; half-tone;
机译:在微复制过程中应用灰度光刻制备长六角形微透镜阵列
机译:微通道成型:一种以微影术为灵感的微米级图案成型方法
机译:无掩模灰度光刻及其3D微流控应用
机译:灰度光刻中微铬图案的比较
机译:使用灰度光刻和深反应离子刻蚀开发深硅相菲涅耳透镜
机译:使用快速晶圆级LED光刻图案制作的微流体器件
机译:高分辨率纳米透明机构:近期纯粹和经济高效的自上而下的光刻的最新进展,用于≈10nm尺寸纳米图:从边缘光刻到次级溅射光刻(ADV。Mater。35/2020)