Alcatel-Thales III-V Lab, Route Departementale 128, 91767 Palaiseau, France;
Alcatel-Thales III-V Lab, Route Departementale 128, 91767 Palaiseau, France;
Alcatel-Thales III-V Lab, Route Departementale 128, 91767 Palaiseau, France;
Alcatel-Thales III-V Lab,;
机译:来自宽波导无铝有源区(/ spl lambda / = 805 nm)二极管激光器的8.8 W CW功率
机译:无铝有源区高功率半导体二极管激光器镜面的新型钝化工艺
机译:基于两种材料有源区成分的5.6μm量子级联激光器,室温壁塞效率超过28%
机译:高壁插头效率二极管激光器,具有975nm的无酰柱有源区
机译:ovel基于InP的高功率,高效率,单量子阱(SQW)有源区二极管激光器,发射功率为1.5微米。
机译:KTP和810 nm二极管激光器对染有不同物质的牙齿的漂白效率:一项体外研究。
机译:具有压缩应变InGaasp量子阱的730nm发射无al有源区二极管激光器
机译:70%功率转换效率无铝二极管激光棒