Department of Materials Science and Engineering, 253, Yonghyeon-dong, Nam-ku, 402-751 Incheon, South Korea;
School of Advanced Materials Engineering, Kookmin University, 136-702, South Korea;
ZnO; Zn buffer layer; rf magnetron sputtering; XRD; PL; AFM;
机译:射频磁控溅射沉积Zn缓冲层上ZnO薄膜的结晶度和光致发光特性
机译:射频磁控溅射沉积Zn缓冲层上ZnO薄膜的结晶度和光致发光特性
机译:Zn缓冲层在RF磁控溅射沉积Zn缓冲层上ZnO膜的结构和光致发光特性中的作用
机译:RF磁控溅射沉积的Zn缓冲层上ZnO膜的结晶度和光致发光性能
机译:原位光谱椭圆偏振法研究直流反应磁控溅射沉积的硅膜的结晶度和界面结构。
机译:射频磁控溅射沉积ZnS薄膜的结构和光学性质
机译:通过RF磁控溅射在Si基板上生长的ZnO缓冲层气体气氛的影响