Department of Mechanical Engineering University of Nevada, Las Vegas Las Vegas, NV 89154-4027;
机译:通过机械抛光对铌涂层的化学蚀刻的1.3-GHz单细胞铜腔基材的机械抛光表面制备
机译:Cl_2 / Ar等离子体化学辅助离子束工艺中GaAs ECR蚀刻的优化
机译:多重内反射几何学中红外表面吸收光谱法对硅表面电化学刻蚀过程的原位观察红外抗体对硅表面电化学刻蚀过程的原位观察
机译:铌腔中化学蚀刻工艺的优化
机译:铌腔中化学蚀刻过程的建模和仿真。
机译:通过谐振腔增强的光电化学刻蚀可扩展地对光子谐振器进行高精度调谐
机译:铌腔化学蚀刻过程的建模,优化和流动可视化