ST Microelectronics, 1000, East Bell Road, Phoenix, AZ 85022;
Lam Research Corporation, 4650, Cushing Parkway, Fremont, CA 94538;
机译:控制脉冲电感耦合AR / CL2等离子体中的VUV光子通量和等离子体蚀刻中的潜在应用
机译:为改善GaAs / AIGaAs材料的感应耦合等离子体反应离子刻蚀而开发的腔室调节工艺
机译:电感耦合等离子体处理室中等离子体参数的三维测量
机译:偏置电压控制在电感耦合等离子体蚀刻系统中的应用,用于改进的腔室匹配和先进过程控制
机译:控制在感应耦合等离子体中蚀刻过程中形成和去除涂层的相对速率。
机译:电感耦合等离子体质谱法作为评估常规测量过程中血清钙测量偏差和加工材料可交换性的参考方法
机译:用于感应耦合等离子室L型匹配网络自动控制器的阻抗匹配控制器
机译:电感耦合等离子体(ICp) - 原子发射光谱(aEs)在材料勘探,采矿和加工中的现状和潜在应用