EUVL Infrastructure Development Center, Inc. (EIDEC) 16-1 Onogawa, Tsukuba, Ibaraki 305-8569, Japan;
EUVL Infrastructure Development Center, Inc. (EIDEC) 16-1 Onogawa, Tsukuba, Ibaraki 305-8569, Japan;
EUVL Infrastructure Development Center, Inc. (EIDEC) 16-1 Onogawa, Tsukuba, Ibaraki 305-8569, Japan;
Resist dissolution; in situ analysis; LER during dissolution; contact holes; defect mechanics; high-speed atomic force microscopy;
机译:使用原子力显微镜原位直接观察未处理光刻胶上的辐射电子束图案
机译:使用原子力显微镜原位直接观察未处理光刻胶上的辐射电子束图案
机译:抗蚀剂溶解过程中EUV抗蚀剂图案形成的原位分析
机译:抗蚀剂溶出过程对图案形成变异性的影响:高速原子力显微镜的原位分析
机译:探查分子间的相互作用:原子力显微镜和X射线研究晶体的生长和溶解过程
机译:利用自适应图像处理技术对高速原子力显微镜数据集进行大规模分析
机译:照射电子束图案的原位直接可视化 未经处理的抗蚀剂使用原子力显微镜