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Process optimization for a 3D optical coupler and waveguide fabrication on a single substrate using buffer coat material

机译:使用缓冲涂层材料在单个基板上进行3D光耦合器和波导制造的工艺优化

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摘要

We have developed a hybrid lithography process necessary to fabricate a vertical optical coupler and an array of waveguide structures using the same buffer coat material on a single substrate. A virtual vernier scale built into the process enables precise alignment of both structures.
机译:我们已经开发了一种混合光刻工艺,该工艺对于在单个基板上使用相同的缓冲涂层材料来制造垂直光耦合器和波导结构阵列非常必要。内置在过程中的虚拟游标刻度使两种结构都能精确对准。

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