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The structure and dielectric properties of BaZrxTi1−xO3 and BaSnxTi1−xO3 thin films for microwave applications

机译:微波应用BaZrxTi1-xO3和BaSnxTi1-xO3薄膜的结构和介电性能

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摘要

BZT and BTS thin films were fabricated in-situ by RF magnetron on Pt/Ti/Al2O3 substrate (r-cut) in oxygen atmosphere. All films with thickness 400 to 500 nm were crystallized in perovskite phase. For the electrical studies the sandwich capacitors were fabricated based on BZT and BTS films. Tunability at 20 V reached 3.5 with dielectric losses as 0.03 at 2 GHz.
机译:BZT和BTS薄膜是通过RF磁控管在氧气气氛中的Pt / Ti / Al2O3衬底(r切割)上原位制备的。在钙钛矿相中结晶所有厚度为400至500nm的膜。为了进行电气研究,基于BZT和BTS薄膜制造了夹层电容器。在20 V下的可调性达到3.5,在2 GHz下的介电损耗为0.03。

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