首页> 外文会议>2004 PLACE Division conference >Evaluation of Low Voltage Electron Beam Processors Using Thin Film Dosimetry Techniques

【24h】

Evaluation of Low Voltage Electron Beam Processors Using Thin Film Dosimetry Techniques

机译：薄膜剂量学技术评估低压电子束处理器

获取原文

获取原文并翻译 | 示例

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

Importance of dosimetrically evaluating low voltage electron beam accelerators used to cure coatings, inksrnand laminating adhesives especially for food flexible packaging applications will be discussed.rnWhat is thin film dosimetry? A detail method using it to evaluate these electron beam accelerators will bernpresented.

机译：将讨论剂量学评估低压电子束加速器（特别是用于食品软包装应用的涂料，油墨和层压胶粘剂的固化）的重要性。什么是薄膜剂量学？将介绍使用它来评估这些电子束加速器的详细方法。

著录项

来源
《2004 PLACE Division conference》|2004年|p.1-6|共6页
会议地点 Indianapolis IN(US)
作者
Im Rangwalla;
展开▼
作者单位

Energy Sciences, Inc. 42 Industrial Way Wilmington MA 01887;

展开▼
会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类造纸工业;
关键词

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. 光子束和电子束在早期乳腺癌患者放疗瘤床加量计划的剂量学研究 [J] . Mohamed Mahmoud, Soha Ahmed, Ehab M. Attalla, 中德临床肿瘤学杂志（英文版） . 2012,第012期
2. Evaluation Of Low Voltage Electron Beam Processors Using Thin Film Dosimetry Techniques [J] . Im Rangwalla Paper, Film & Foil Converter . 2005,第7期

机译：薄膜剂量学技术评估低压电子束处理器
3. Laser damage resistance of hafnia thin films deposited by electron beam deposition, reactive low voltage ion plating, and dual ion beam sputtering [J] . Laurent Gallais, Jeremie Capoulade, Jean-Yves Natoli, Applied optics . 2008,第13期

机译：通过电子束沉积，反应性低压离子镀和双离子束溅射沉积的氧化f薄膜的抗激光损伤性
4. Laser damage resistance of silica thin films deposited by Electron Beam Deposition, Ion Assisted Deposition, Reactive Low Voltage Ion Plating and Dual Ion Beam Sputtering [J] . L. Gallais, H. Krol, J.Y. Natoli, Thin Solid Films . 2007,第7a8期

机译：电子束沉积，离子辅助沉积，反应性低压离子镀和双离子束溅射沉积的二氧化硅薄膜的抗激光损伤性
5. Evaluation of Low Voltage Electron Beam Processors Using Thin Film Dosimetry Techniques [C] . Im Rangwalla TAPPI PLACE conference . 2004

机译：薄膜剂量学技术评估低压电子束处理器
6. Solution-processed Post Transition Metal Oxide Semiconductor Electronics: High Performance Thin-film Transistor and/or Low Temperature Processed Thin Film [D] . Kim, Myung-Gil 2012

机译：固溶处理后过渡金属氧化物半导体电子产品：高性能薄膜晶体管和/或低温处理薄膜
7. Characterization of ITO/CdO/glass thin films evaporated by electron beam technique [O] . Hussein Abdel-Hafez Mohamed, Hazem Mahmoud Ali 2008

机译：电子束蒸发ITO / CdO /玻璃薄膜的表征
8. Dose field formation in thin films irradiated by electron beams: comparison of the Monte Carlo simulation with dosimetry [O] . Kaluska I., Lazurik V.T., Lazurik V.M., 2009

机译：电子束辐照薄膜中的剂量场形成：蒙特卡罗模拟与剂量学的比较
9. Evaluation of Selected Three Layer Thin Films for Compatibility with Hybrid Microelectronic Fabrication Techniques. [R] . higbie,thomas e. 1972

机译：选择三层薄膜与混合微电子制造技术兼容性的评价。

Evaluation of Low Voltage Electron Beam Processors Using Thin Film Dosimetry Techniques

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅