KITECH, 35-3, Hongcheon-ri, Ipjang-myeon, Seobuk-gu, Cheonan-si, Chungnam, 330-825, Korea;
ETRI, 138 Gajeongno, Yuseong-gu, Daejeon, 305-700, Korea;
KITECH, 35-3, Hongcheon-ri, Ipjang-myeon, Seobuk-gu, Cheonan-si, Chungnam, 330-825, Korea;
KITECH, 35-3, Hongcheon-ri, Ipjang-myeon, Seobuk-gu, Cheonan-si, Chungnam, 330-825, Korea;
KITECH, 35-3, Hongcheon-ri, Ipjang-myeon, Seobuk-gu, Cheonan-si, Chungnam, 330-825, Korea;
flexible LCD; freestanding film substrate; fabrication process;
机译:层压功能聚合物覆盖膜制备单基板柔性LCD
机译:用于超级电容器的柔性还原型氧化石墨烯-TiO2自立膜的制备
机译:飞秒激光在独立的柔性石墨烯薄膜上快速制备大面积玫瑰状微图案
机译:使用独立薄膜基板制造柔性LCD
机译:用于柔性电子应用的柔性基板上薄膜的高循环弯曲疲劳的实验和分析研究。
机译:飞秒激光在独立的柔性石墨烯薄膜上快速制备大面积玫瑰状微图案
机译:Femtosecond激光在独立式柔性石墨烯薄膜上的大面积玫瑰微图案的快速制造