孪生磁控溅射制备氮化铬涂层的研究

摘要

本文利用孪生磁控溅射技术制备不同氮含量的氮化铬涂层,并分析了N2流量对涂层组织、结构性能以及耐腐蚀性能的影响.试验设备采用自行研制的MSP-1000复合离子镀膜机,配置了四对孪生磁溅射靶及对称双极性脉冲中频磁控溅射电源.实验通过改变N2流量来改变涂层中的氮含量,四组实验通入不同的氮氩含量(体积含量),分别为33％,50％,67％,100％,编号分别为1#,2#,3#,4#.结果表明:增加氮流量对薄膜的性质有重要的影响,如CrN生长取向随着N2流量的增加CrN择优取向由<111>转变为<200>,N2流量较低时1#涂层中出现了Cr2N.在N2流量较低(1#)和较高时(4#)腐蚀电位分别为-0.17V和-0.33V,极大地提高了涂层的防腐性能.