真空镀膜技术在功能粉体中的应用及产业化展望

摘要

利用真空镀膜技术可以实现粉体表面包覆、粉体表面改性以及粉体制备.计算分析了真空镀膜法粉体包覆时粉体粒径与真空镀膜装备设计、工艺参数之间的关系,认为通过倾斜滚动或者中间筛网方法,可实现任何粒径粉体的均匀表面包覆镀膜.利用等离子体辅助气相沉积技术制备了纳微米片碳粉体,利用光学显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、比表面测试仪等分析了该纳微米片碳粉体的组成、结构及比表面积,通过浸渍法加载催化活性物质并测试了其加氢催化性能.随着3D打印、粉末冶金、注射成型等现代粉体加工技术的发展与精度要求的提高,以及高性能功能粉体在油墨、发光、显示、LED、催化、工模具、热学、能源等方面的关键作用,通过真空镀膜技术获得高性能功能粉体越来越多的成为消费电子、航空航天、军工科研等所有材料相关高技术领域关注的热点.