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ZHANG Li-jun; 张李俊; XU Chao; 徐超; XU Jia-wen; 许嘉文; ZHANG Zeng-ming; 张增明; SUN La-zhen; 孙腊珍; WANG Zhong-ping; 王中平;
中国高等学校实验物理教学研究会;
教育部高等学校物理学与天文学教学指导委员会;
衍射光栅; 光学实验; 光刻技术;
机译:使用电子束光刻技术制作的长纤维布拉格光栅相位掩模中的相位误差最小
机译:使用激光干涉光刻技术制作和表征高质量且均匀的Si $ _3 $ N $ _4 $波导光栅
机译:使用纳米压印光刻技术制作100 nm以下的线宽光栅图案
机译:通过干涉光刻技术制作的金属覆盖二维六角形光栅中的等离子体共振
机译:使用干涉光刻技术制作布拉格光栅。
机译:电子束光刻技术制作的单模锥形垂直SU-8波导用于分析物传感
机译:使用多角度倾斜光刻技术制作3-D微结构及其微流体应用
机译:用于原子干涉测量的大面积独立式光栅使用全息光刻技术制作
机译:在半导体工艺中应用纳米光刻技术制作单电子晶体管(组)的方法。
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