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申儒林; 吴任和; 钟掘;
教育部;
国务院学位办;
磁头; 研磨; 抛光; 运动学; 去除率;
机译:研磨机/抛光机按深度而不是时间去除物料
机译:通过搅拌介质研磨对硅纳米颗粒进行厌氧与需氧制备。双氧,研磨溶剂和研磨时间对粒度,表面积,结晶度,表面/近表面组成和反应性的影响
机译:搅拌介质研磨的厌氧对硅纳米粒子的有氧含量。二恶英,研磨溶剂和研磨时间对粒径,表面积,结晶度,表面/近表面组成和反应性的影响
机译:恒压研磨方法 - 脆性模式研磨时去除率的恒压研磨方法评价研究的研究(原料粉末粒径的影响)
机译:蓝宝石研磨运动学的微/纳米表面处理单面电解加工修整(ELID)研磨
机译:纳米金刚石在磁头研磨中的力学特性
机译:基于研磨力分析的研磨轮表面变形的一个方面
机译:连续研磨/抛光机中材料去除,去除率和preston系数的计算。
机译:平面研磨抛光机的平行稳定器和双头平面研磨机,双平面精细研磨机,双面研磨机和抛光机的回转支承系统
机译:磁头棒保持单元,研磨装置以及与薄膜磁头相对的研磨介质的表面的方法
机译:薄膜磁头中与介质相对的表面研磨方法,磁头棒保持单元及研磨装置
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