铀表面磁控溅射离子镍镀层的电化学腐蚀行为

摘要

采用磁控溅射离子镀膜(MSIP)技术在贫铀表面制备了金属镍镀层,利用电化学测试技术研究了镍镀层在C1-溶液中的电化学腐蚀行为.结果表明:在3.5％NaCl溶液的腐蚀介质中,镍镀层的腐蚀电位为-126 mV,高于贫铀的腐蚀电位(-785.2 mV);在50 μg/g Cl-的KC1溶液中,镍镀层的腐蚀电位为-100.8 mV,高于贫铀的腐蚀电位(-641.2 mV);镍镀层对贫铀是一种阴极性镀层,对贫铀的保护基于腐蚀介质的物理屏障作用;镀镍贫铀样品的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀的,腐蚀电流远小于贫铀的,70 h的连续腐蚀实验中镍镀层未出现破裂、剥落现象,腐蚀电位、电流保持稳定,镍镀层对贫铀基体呈现良好的保护性.