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CVD金刚石薄膜生长过程中的原位光发射谱研究

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利用原位发射谱技术对热丝化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜生长过程进行了研究.实验表明甲烷浓度对气相基团(如CH,CH<'+>和H等)浓度影响很大,但对电子平均温度影响较小.

著录项

来源
《2000年中国博士后学术大会》|2000年|123-127|共5页
会议地点北京
作者
廖源; 常超; 方容川; 陈义良;
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作者单位

中国科学技术协会;

中国博士后科学基金会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类碳C;天然磨料;
关键词
金刚石薄膜; 化学气相沉积; 原位光发射谱;

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