NO/NH3在γ-Al2O3表面吸附反应的研究

摘要

本文采用DFT(密度泛函理论)方法研究了NO和NH3在完整和缺陷的γ-Al2O3(110)表面吸附与反应特性.研究表明,NO在完整(110)表面的吸附作用较弱,而NH3分子的吸附作用较强,NH3在Al原子顶位可形成稳定吸附.完整(110)表面上的SCR反应决速步为-NH2NO基团的分解，反应的最大能垒为56.13kcal/mol。对于产生氧空穴的缺陷(110)表面,NO和NH3均可稳定吸附,NH3在吸附过程中可直接发生裂解。另外，SCR反应在缺陷(110)表面的最大能垒明显较低，说明氧空穴的存在促进了SCR反应的进行。