Al2O3-SiNx膜系在晶硅太阳电池上的减反与钝化应用设计

摘要

本文对太阳电池减反膜进行模拟,通过计算不同波长下的反射率,得到不同厚度的氧化铝薄膜下Al203-SiNx双层膜系的反射率,并加权上太阳光谱对此的影响,得到对于单晶硅太阳电池的最优的Al203薄膜厚度为85nm.对射频磁控反应溅射的工艺进行探讨,研究了不同工艺对Al2O3薄膜的沉积速率的影响.研究溅射Al203薄膜对表面复合的影响,经过对比实验后发现,增大功率会提高溅射粒子的动量,从而提高薄膜的沉积速率,使薄膜表面拥有更好的形貌,降低表面复合.而真空腔内气流量越大,薄膜的表面复合就越严重,而氧气含量对于薄膜表面复合没有明显的影响.