热处理温度对含光敏基团的液晶高分子光化学取向的影响

摘要

本文以带光敏基团的液晶高分子(简称CP14)为材料进行光化学反应的研究,它以4-(6-丙烯酰氧基己氧基)苯甲酸-4-羟基-4-(甲氧基)酯和4-(6-丙烯酰氧基己氧基)苯甲酸-7-羟基香豆素酯为单体按照一定的共聚比合成.通过不同温度条件下吸光度的变化来表征液晶高分子的光化学取向性能.实验结果表明:在对未曝光的高分子膜进行热处理时,随着热处理温度的逐渐升高,分子膜层在液晶基元处的吸光度基本不变.而对曝光后的高分子膜进行热处理,随着热处理温度的逐渐升高,分子的取向方向呈现一定的周期变化,但产生的最大各向异性值基本保持不变.