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CMOS工艺太赫兹成像系统研究综述

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近十年,关于CMOS工艺太赫兹成像系统的研究广受关注,频出成果.本文概述了CMOS工艺太赫兹成像系统的研究进展,并针对现存问题展望了一些研究方向.本文还使用统一方法分析了太赫兹成像系统的原理和指标,并从检测方法、成像机理、器件类型三个方面对比了太赫兹成像系统的结构.

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来源
《第三届全国太赫兹科学技术与应用学术交流会》|2016年|1-9|共9页
会议地点成都
作者
张文渊; 王燕;
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作者单位

中国电子学会;

中国兵工学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光学信号处理;
关键词
太赫兹成像系统; 拓扑结构; 性能检测; 成像机理; 器件类型;

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