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刘冰冰; 秦福文; 王德君;
中国电子学会;
碳化硅半导体; 二氧化硅; 界面特性; 氢氮等离子体; 表面预处理;
机译:电子回旋共振氢氮混合等离子体预处理SiC表面并结合后氧化退火钝化SiO2 / 4H-SiC界面缺陷
机译:电子回旋共振微波氮氢混合等离子体后氧化退火改善SiO2 / 4H-SiC界面性能
机译:具有金属后退火的Mo / SiO2 / 4H-SiC金属氧化物半导体的改善界面特性
机译:在低压环境下氮化氨和氮 - 氢 - 混合直流等离子体射流的近底物等离子体特性和热通量与衬里和氮氢 - 混合物DC等离子体射流的关系
机译:氮化物半导体表面和界面特性及器件设计。
机译:银上SiO2 / SiC光栅在高性能皮质醇浓度等离子光纤传感中的应用研究
机译:SiC / SiO2在基于N基的4H-SiC MOS电容器中的界面特性,用PECVD制造,没有退火工艺
机译:siC上热siO2的界面特性。
机译:SIO2 / SIC结构中界面态的氮钝化
机译:sio2 / sic结构中界面态的氮钝化
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