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p型Si上电沉积Ni-W-P合金薄膜

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首次采用恒电流电沉积方式在ｐ型Ｓｉ（１１１）上制备出Ｎｉ－Ｗ－Ｐ合金薄膜。

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来源
《中国机械工程学会第五届全国电镀与精饰学术年会》|1997年|76-78|共3页
会议地点合肥
作者
姚素薇;
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作者单位

中国机械工程学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类电镀工业;
关键词
p型Si;

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