氟化电热蒸发(ETV)/ICP—AES直接测定难熔Si<,3>N<,4>中痕量杂质的研究

摘要

卤化电热蒸发（ＥＴＶ）－ＩＣＰ－ＡＥＳ是基于样品和含卤基体改进剂，在石墨炉内发生高温卤化反应和以ＩＣＰ－ＡＥＳ为检测的联用技术，具有高的进样效率，低的检出限和适宜于小体积进样，以及微量固体试样分析等优点。