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中国光学会;
机译:HfO2 / SiO2高反射光学薄膜在1064 nm的激光诱导热力学关系分析
机译:在SiO2,TiO2,Al2O3和HFO2的等离子体辅助原子层沉积期间O原子的膜胶合性和提取的重组概率(Vol 123,PG 27030,2019)
机译:在SiO2,TiO2,Al2O3和HFO2的等离子体辅助原子层沉积过程中膜胶合性和o原子的重组概率
机译:HFO2,Al2O3和SiO2沉积的优化,导致高紫外光涂层具有低灭绝的高级紫外光涂层
机译:在纳秒级放电激发的等离子体辅助燃烧系统中,通过纯旋转相干反斯托克斯拉曼散射光谱研究散热。
机译:等离子体增强原子层沉积法原位形成SiO2中间层的HfO2 / Ge叠层的界面电和能带对准特性
机译:校正SiO2,TiO2,Al 2 O 3和HfO2等离子体辅助原子层沉积期间O原子的膜胶合性和O原子的重组概率。
机译:分析实验室中在32和32之间的pp和p-核碰撞中的反p,(λ),(反(λ)),(Xi)(反(Xi))和(Omega),(反(Omega))产生。 800 GeV / c
机译:硅烷的无硅烷等离子体辅助CVD沉积作为反折膜,并用于硅晶片上构成的光电池的氢钝化
机译:以辅助账户生产具有辅助反编程和反保护活性的亚芳基酸
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