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电化学微加工系统的研究

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约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术.文章根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发.利用研制的加工仪器,用同一模板,在半导体GaAs进行刻蚀加工,成功地复制出两幅相似三维图形.

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来源
《第五届全国微米/纳米技术学术会议》|2001年|100-103|共4页
会议地点重庆
作者
刘品宽; 曲东升; 张秀峰; 孙立宁; 孙建军; 黄海苟; 田昭武; 夏善红;
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作者单位

国家自然科学基金委员会;

科技部;

解放军总装备部;

清华大学;

重庆大学;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
约束刻蚀剂层技术; 纳米级微定位; 压电陶瓷; 电化学微加工系统; 刻蚀加工;

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