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辛煜; 南京大学物理系; 鲁涛; 黄壮雄; 濮林; 施毅; 宁兆元; 郑有炓;
中国真空学会;
电子回旋共振等离子体; 化学气相沉积; SiNx薄膜; 红外光谱; 光学性能; 拉曼光谱;
机译:PECVD法制备SiNx和SiOx薄膜的结构和性能比较
机译:Cu_2ZnSnSe_4和Cu2ZnSn(S,Se)4薄膜的性能表征,该薄膜是通过用单个Cu-Zn-Sn靶溅射并随后进行硒化或磺化硒化工艺制备的
机译:PIN型非晶硅薄膜太阳能电池n型掺杂P掺杂富硅SiNx薄膜的微观结构和光电性能
机译:由RF离子束溅射制备的SINX光学薄膜和物镜应力消除技术
机译:薄膜晶体和铁电BiFeO3的结构与性能表征:耦合的TEM,SPM和光学探针方法。
机译:用于无掩模纳米级刻蚀的微介质阻挡放电反应器SiNx薄膜的制备
机译:离子辅助沉积法制备光学不均匀二氧化钛薄膜的制备。非均匀薄膜的结构和性质。
机译:衬底对金属有机化学气相沉积制备的外延pbTiO(sub 3)薄膜的结构和光学性质的影响
机译:具有SiNx薄膜和BN薄膜的多层纳米层压结构的半导体器件中的绝缘层及其形成方法
机译:在MOCVD制备的薄膜上具有富含SiNx的表面层的阻挡层/衬垫
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