浅谈我国三氟化氮的现状和对策

摘要

三氟化氮可用作高能化学激光器的氟源，是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，有更高的蚀刻速率和选择性，是非常良好的清洗剂，同时也是是半导体与LCD产业制造过程中必备的材料。本文综述了我国三氟化氮的发展和现状，分析了市场形势，并提出了三氟化氮今后发展的对策。